Solución de grabado ITO/Ag/ITO

La solución de grabado ITO/Ag/ITO (óxido de indio y estaño/plata/óxido de indio y estaño) es una solución química especializada diseñada para la eliminación selectiva o el grabado de la forma multicapa compuesta de capas de óxido conductor aparente (ITO) y una capa de plata (Ag). entre. Esta estructura multicapa se utiliza comúnmente en diversos paquetes, que consisten en electrodos transparentes en dispositivos optoelectrónicos, que incluyen células solares y ciertos tipos de pantallas.

La solución de grabado permite crear patrones específicos de la forma multicapa, lo que permite la introducción de diseños personalizados y mejora la eficiencia de los dispositivos. La composición de la solución de grabado se formula con cuidado para garantizar la eliminación efectiva de las capas precisas al mismo tiempo que se mantiene la integridad del sustrato subyacente y de las diferentes capas.

Mejore sus procesos de modelado multicapa con la avanzada solución de grabado ITO/Ag/ITO de UniVOOK Chemical, donde la precisión se une al rendimiento. También podemos proporcionar una solución de grabado sin plata basada en ácido acético glacial;

La solución de grabado ITO/Ag/ITO se utiliza en el proceso de grabado de aleaciones de plata-níquel, aleaciones de plata-cobre y plata pura;

Mantiene la superficie de la placa plana y lisa, después del proceso de grabado;

Velocidad de grabado rápida y alta eficiencia;

Hacer reacción con la sección transversal;

Sin residuos;

Características: Solución de grabado ITO/Ag/ITO

Alta tasa de grabado: 

Experimente el rendimiento con un alto precio de grabado. La solución de UniVOOK Chemical acelera el sistema de grabado, ofreciendo una forma rápida y efectiva de modelar sistemas multicapa. Esta alta tasa de grabado contribuye a simplificar los procedimientos de fabricación.

Formulación personalizable :

Al reconocer las diversas necesidades de la empresa optoelectrónica, UniVOOK Chemical ofrece formulaciones personalizables de la solución de grabado ITO/Ag/ITO. Adapte la solución a las necesidades específicas de software, asegurando la compatibilidad con diversos procesos de fabricación y sustratos.

Preservación mejorada del sustrato: 

Nuestra solución está diseñada para mantener la integridad de los sustratos subyacentes. Experimente una preservación del sustrato más excelente durante la técnica de grabado, lo que contribuye a la estabilidad y confiabilidad generales de los dispositivos que ofrecen sistemas conductores transparentes multicapa.

Precisión multicapa: 

Logre diseños elaborados con confianza en uno mismo. La solución de grabado de UniVOOK Chemical ofrece una manipulación única sobre la eliminación de capas de ITO y Ag dentro de una forma multicapa, teniendo en cuenta patrones personalizados y eficientes.

Selectividad mejorada: 

Experimente una selectividad mejorada, asegurando la eliminación centrada de capas particulares mientras se preserva la integridad del sustrato subyacente. Esta característica superior optimiza el rendimiento de sistemas conductores destacados.

Producto relacionado: Solución de grabado BOE